Ưu điểm của quá trình nấu chảy chọn lọc chùm tia điện tử

Công nghệ tạo hình kim loại trực tiếp bằng chùm tia điện tử sử dụng chùm tia điện tử năng lượng cao làm nguồn nhiệt xử lý. Quá trình tạo hình quét có thể được thực hiện bằng cách điều khiển các cuộn dây lệch từ tính mà không có quán tính cơ học, đồng thời môi trường chân không của chùm tia điện tử cũng có thể ngăn chặn bột kim loại bị oxy hóa trong quá trình thiêu kết hoặc nóng chảy pha lỏng. . So với laser, chùm tia điện tử có ưu điểm là tốc độ sử dụng năng lượng cao, độ sâu tác động lớn, tốc độ hấp thụ vật liệu cao, độ ổn định và chi phí vận hành và bảo trì thấp. Ưu điểm của công nghệ EBM là hiệu quả cao của quá trình tạo hình, biến dạng nhỏ của các bộ phận, không có kim loại hỗ trợ trong quá trình tạo hình, cấu trúc vi mô dày đặc hơn, v.v. Khả năng kiểm soát độ lệch và tiêu điểm của chùm tia điện tử nhanh hơn và nhạy hơn. Độ lệch của tia laser đòi hỏi phải sử dụng điện kế và tốc độ quay của điện kế rất cao khi tia laser được quét ở tốc độ cao. Khi công suất laser lớn, điện kế cần hệ thống làm mát phức tạp hơn và trọng lượng của điện kế tăng lên đáng kể. Vì vậy, khi sử dụng chức năng quét công suất cao hơn, tốc độ quét của tia laser sẽ bị hạn chế. Khi quét phạm vi hình thành lớn, tiêu cự của tia laser cũng khó thay đổi nhanh chóng. Độ lệch và tiêu điểm của chùm tia điện tử được hoàn thành bằng từ trường, đồng thời độ lệch và độ dài tiêu cự của chùm tia điện tử có thể được kiểm soát nhanh chóng và nhạy bén bằng cách thay đổi cường độ và hướng của tín hiệu điện. Hệ thống lấy nét làm lệch chùm tia điện tử sẽ không bị nhiễu do bay hơi kim loại. Khi kim loại bị nung chảy bởi tia laser và chùm tia điện tử, hơi kim loại sẽ bị phân tán trong toàn bộ không gian hình thành và màng kim loại sẽ được mạ trên bề mặt của bất kỳ vật thể nào tiếp xúc. Việc làm lệch và hội tụ chùm tia điện tử đều được thực hiện trong từ trường nên sẽ không bị ảnh hưởng bởi sự bay hơi của kim loại; điện kế laser và các thiết bị quang học khác dễ bị ô nhiễm do bay hơi.